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| 溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响 |
| 郭继花,黄致新,崔增丽,杨磊,邵剑波 |
| 华中师范大学物理科学与技术学院,武汉,430079? |
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| Effect of sputtering power on magneto-optical properties of GdTbFeCo thin films |
| 郭继花,黄致新,崔增丽,杨磊,邵剑波 |
| 华中师范大学物理科学与技术学院,武汉,430079? |
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摘要 采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明:基片与靶间距为72 mm溅射功率为75 W,溅射气压为0.5 Pa,薄膜厚度为120 12m时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顾力达到5966 Oe,克尔角为0.413 °.
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收稿日期: 2009-03-25
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| 引用本文: |
郭继花,黄致新,崔增丽,杨磊,邵剑波. 溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响[J]. , 2009, 48(3): 0-0.
郭继花,黄致新,崔增丽,杨磊,邵剑波. Effect of sputtering power on magneto-optical properties of GdTbFeCo thin films. , 2009, 48(3): 0-0.
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| 链接本文: |
| https://journal.ccnu.edu.cn/zk/CN/ 或 https://journal.ccnu.edu.cn/zk/CN/Y2009/V48/I3/0 |
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