Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响
张峰,黄致新,胡曾,崔增丽,董凯峰,杨晓非
[1]华中师范大学物理科学与技术学院,武汉430079 [2]华中科技大学电子科学与技术系,武汉430074
Effect of Cu underlayer on magnetic properties of SmCo thin films
张峰,黄致新,胡曾,崔增丽,董凯峰,杨晓非
[1]华中师范大学物理科学与技术学院,武汉430079 [2]华中科技大学电子科学与技术系,武汉430074
摘要 通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo/Cu磁性薄膜.采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数,制备出了矫顽力高达2400 Oe的溅射态SmCo面内磁化膜;通过控制溅射Cu底层时的基片温度,薄膜磁化方向有从面内向垂直方向转变的趋势,并制备出矫顽力达到6215 Oe的垂直面内方向的SmCo/Cu薄膜;利用扫描隧道显微镜(STM)分析SmCo薄膜在不同温度下的表面形貌发现,150℃时薄膜的晶粒尺寸较小有利于改善薄膜磁性能.
收稿日期: 2007-04-25
引用本文:
张峰,黄致新,胡曾,崔增丽,董凯峰,杨晓非. Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响[J]. , 2007, 46(4): 0-0.
链接本文:
http://journal.ccnu.edu.cn/zk/CN/ 或 http://journal.ccnu.edu.cn/zk/CN/Y2007/V46/I4/0
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