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| SmCo薄膜的溅射法制备及其磁性能研究 |
| 杨国海1， 黄致新2 |
| 1.湖北文理学院 物理与电子工程学院， 湖北 襄阳；2. 华中师范大学 物理科学与技术学院， 武汉 |
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| 杨国海1， 黄致新2 |
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摘要 采用射频磁控溅射方法在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜，并重点研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响.结果发现，当磁性层溅射功率为60 W， 溅射气压为0.5 Pa，溅射时间为8 min，且底层溅射功率为125 W，溅射气压为0.5 Pa，溅射时间为4 min时，薄膜的矫顽力高达3500 Oe.
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收稿日期: 1900-01-01
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